配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净...
电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。电渗析在超纯水初步除盐中发挥一定作用。辽宁什么是超纯水常见问题
库仑滴定法,原理:样品消解后,过量的氧化剂用电解产生的二价铁为还原剂进行库仑滴定,并用电位法判别滴定终点,根据消耗的电量求出样品中的 COD 值。适用范围:适用于各种类型的水样。优点:操作简便、快速,自动化程度高,无需使用标准溶液滴定,可避免人为误差。缺点:仪器设备较复杂,成本较高,对水样的预处理要求较高,且测定结果受水样中其他可被氧化物质的干扰。测定范围较窄,精度相对较低,只能求得大体的 COD 范围,如需准确测量,还需采用其他标准方法。辽宁什么是超纯水常见问题超纯水的黏度特性与普通水相比有所变化。

总有机碳(TOC)的检测方法,高温燃烧法,原理:将水样中的有机物质在高温(通常为 900℃-1200℃)下完全氧化为二氧化碳,然后利用非色散红外检测器(NDIR)对二氧化碳进行定量检测,从而计算出总有机碳的含量。适用范围:适用于海水、江河、工业废水等污染较重的水体以及 TOC 浓度较高或含有高水平颗粒物的水样。优点:氧化彻底,测量精度高,可检测到 ppb 级的 TOC,适用于各种类型的有机物氧化。缺点:仪器设备昂贵,运行成本高,对样品的前处理要求较高,需要去除悬浮物和金属氧化物等干扰物质。
化学需氧量(COD)的检测方法,原理:在强酸性条件下,以重铬酸钾为氧化剂,硫酸银为催化剂,硫酸汞为氯离子掩蔽剂,加热消解水样,使水样中的有机物被氧化,剩余的重铬酸钾以试亚铁灵为指示剂,用硫酸亚铁铵溶液滴定,根据硫酸亚铁铵的消耗量计算出 COD 值。适用范围:适用于污染较严重的水和工业废水,可测定大于 50mg/L 的 COD 值,用 0.025mol/L 浓度的重铬酸钾溶液可测定 5-50mg/L 的 COD 值,但准确度较差。优点:氧化率高,再现性好,准确可靠,是国际社会普遍公认的经典标准方法。缺点:回流装置占空间大,水、电消耗大,试剂用量大,操作不便,难以大批量快速测定。超纯水在气象监测仪器校准中作为标准用水。

在分析化学领域,超纯水是许多高精度分析仪器的必备用水,如高效液相色谱仪、气相色谱仪、原子吸收光谱仪等。这些仪器对样品的纯度要求极高,超纯水作为空白对照和样品稀释剂,可以有效排除水中杂质对分析结果的干扰,提高分析的灵敏度和准确性。例如在痕量金属元素分析中,超纯水能够避免水中微量金属离子对目标金属元素检测的影响,从而实现对极低浓度金属元素的精确测定。在电力行业,超纯水用于蒸汽锅炉的给水。因为普通水中的杂质在高温高压下会形成水垢,降低锅炉的热传递效率,增加能源消耗,甚至可能引发锅炉破坏等严重安全事故。而超纯水几乎不含杂质,不会产生水垢,能够保证锅炉的安全稳定运行,提高能源利用效率。超纯水的硬度近乎为零,不会产生水垢影响设备。山东如何分类超纯水
超纯水的电导率常低于 0.1 μS/cm,显示其高纯度。辽宁什么是超纯水常见问题
例如在电子工业的半导体制造领域,特别是高精度芯片制造过程中,通常要求超纯水的电阻率接近或达到 18.2 MΩ・cm。这是因为芯片制造工艺对水中离子杂质极为敏感,即使微量的离子存在也可能导致芯片性能下降或出现故障。而在一些对水质要求稍低的行业,如一般的化学分析实验室,超纯水电阻率达到 10 - 18 MΩ・cm 左右也可能满足基本的实验需求。对于超纯水的微生物含量,通常要求每毫升水中的细菌菌落数(CFU/mL)低于 10 甚至更低。在一些对微生物极其敏感的领域,如制药行业的注射剂生产和生命科学研究中的细胞培养实验,超纯水的微生物标准要求更加严格,要求达到无菌状态,即每毫升水中的细菌菌落数几乎为零。辽宁什么是超纯水常见问题
配置碱性清洗液(如氢氧化钠溶液)并打入膜组件,按照酸性清洗的类似操作流程进行循环清洗 30 - 60 分钟,循环温度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分钟后排放碱性清洗液,排放和收集方式同酸性清洗液处理。再次用清水冲洗膜组件,冲洗时间约 30 - 45 分钟,确保清洗液被彻底冲洗干净...
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