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    金相试样电解抛光、腐蚀规程本标准规定了金属试样电解抛光、腐蚀操作的试验规范。本标准适用于金属试验中金相试样的制备。1．主要技术参数见设备（EPD—06A型电解抛光腐蚀仪）的操作说明书2．操作步骤见设备的操作说明书，抛光工艺可参考附表中的电解抛光、腐蚀参考资料3．安全规程，必须通循环水冷却，配制温度低于15。C，使用温度应低于200C注意安全，防止燃烧和。，要注意安全，应先放好试样，再调电压到所需值，后进行电解抛光，结束后将电压调到零位再取试样。，直流档无论有无负载，要严防短路，尤其使用外电解浸蚀时更应注意。（即抛光或腐蚀进行时），严禁转换电压调整器。每次抛光后，应关闭电源防止过热。，将电解液倒入其它容器中，用水清洗电解槽及冷却循环系统。IV-C极化曲线测试软件是可在软件界面对电压、电流进行设置并控制机器工作，工作电压、电流数据可输入到计算机，以便于进一步数据分析和研究，为确定材料的抛光、腐蚀参数提供依据。 赋耘检测技术（上海）有限公司晶间腐蚀仪腐蚀瓶支架冷凝管烧瓶有销售！常见腐蚀仪特价

    所述铝合金为2024铝合金、7075铝合金、A319铝合金或铸造铝硅合金。本发明与现有技术相比具有以下优点:I)本发明所述抛光液为三氯化铝-盐酸三甲胺离子液体，组分简单，不含磷酸、硫酸、铬酸等物质，绿色环保，而且来源***，价格低廉。2)本发明所述抛光液在使用时操作温度低，在室温或稍高于室温的条件下即可进行，能量消耗低，抛光液损耗小。3)本发明所述抛光液适用范围，不仅可以对纯铝和常规铝合金进行电化学抛光，而且还可以对铸造铝硅合金进行抛光。4)通过本发明所述抛光液抛光所得到的样品抛光效果好，光泽度较高且保持时间较长。为铝及铝合金电化学抛光前后对比照片，其中(a)为纯铝，(b)为2024铝合金，(c)为7075铝合金，(d)为A319铝合金，黑线下方是电化学抛光后的效果，黑线上方没经过抛光。【具体实施方式】实施例1离子液体中电化学抛光纯铝的方法，具体条件和实施步骤如下:1)抛光液的配制:称取g无水三氯化铝，g盐酸三甲胺，在20°C搅拌2h后即得到所需的离子液体抛光液；2)样品前处理:将纯铝(20_X14mmX8mm)及铜片(33_X8_Xlmm)置于溶液中超声清洗5~10min，然后用蒸馏水冲洗，用冷风吹干；3)电化学抛光:用脉冲电源对纯铝进行电化学抛光，纯铝作为阳极。 常见腐蚀仪特价赋耘检测技术（上海）有限公司低倍组织热酸蚀装置加热多少温度合适？

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    电解腐蚀仪推荐地，步骤1中，不同规格的水磨砂纸包含150#、300#、600#、1000#及1500#中的任意两种以上。推荐地，步骤2中，***电流密度为，电解抛光时间20~30s。推荐地，步骤3中，洗净步骤包含：先用水冲洗，并在冲洗过程中，用带水的脱脂棉擦去样品表面的腐蚀残留薄膜，再用无水乙醇冲洗干净，吹干。推荐地，步骤4中，第二电流密度为/cm2，电解腐蚀时间2~8s。推荐地，步骤5中，洗净步骤为先用水冲洗，再采用无水乙醇冲洗，吹干。本发明中的电解抛光腐蚀剂中，磷酸是电解抛光腐蚀液中的主要成分，磷酸和磷酸盐的黏滞性都比较大，通电后有利于微观凸起处金属的优先溶解，对金属的腐蚀性比较小，对获得平整光亮的表面起重要的作用。硫酸可提高电解液的导电率，改善分散能力，减轻对镍基材料的腐蚀，提高试样的光洁度和减少粗糙度。硝酸是一种具有强氧化性、腐蚀性的强酸，在通电后其作为氧化剂可将镍基合金表面予以溶解，因晶粒上原子排列不规则，具有较高的自由能，可以在腐蚀的时候显现出晶界。甘油作为缓腐剂，可在镍基金属表面形成一层薄膜，改善金属表面的电层结构，有效地减缓腐蚀的速度,并减少出现点蚀的出现。大电流的情况下（***电流）。 电解抛光腐蚀仪装置国内哪家品牌靠谱！

    缺点编辑电解抛光由于没有机械力的作用，所以没有变形层产生，也没有金属扰动层，能够显示试样材质的真实组织。由于抛光时试样是浸泡在电解液中，电解液对试样有浸蚀作用，有些试样抛光后就可直接观察组织，不必再进行组织显示。电解抛光特别适合于容易产生塑性变形而引起加工硬化的金属材料和硬度较低的单相合金，比如高锰钢、有色金属、易剥落硬质点的合金和奥氏体不锈钢等。尽管电解抛光有如上优点，但它仍不能完全代替机械抛光，因为电解抛光对金属材料化学成分的不均匀性、显微偏析特别敏感，所以具有偏析的金属材料基本上不能进行电解抛光。含有夹杂物的金属材料，如果夹杂物被电解液浸蚀，则夹杂物有部分或全部被抛掉，这样就无法对夹杂物进行分析。如果夹杂物不被电解液浸蚀，则夹杂物保留下来在抛光面上形成突起。对于只有两相的金属材料，如果这两个相的电化学性相差很大，则电解抛光时会产生浮雕。 赋耘检测技术（上海）有限公司生产电解抛光腐蚀仪质量不错！常见腐蚀仪特价

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电解抛光腐蚀仪可实现恒定电压、恒定电流方式工作，可控制样试样的电解电流密度，能快速而有效地对金属材料进行电解抛光和腐蚀，具有重复性好，操作控制方便等特点。关于电解抛光原理的争论很多，被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是：电解抛光时，靠近试样阳极表面的电解液，在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜，这种薄膜在工件的凸起处较薄，凹处较厚，此薄膜具有很高的电阻，因凸起处薄膜薄而电阻小，电流密度高而溶解快；凹处薄膜厚而电阻大，电流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被平整，***形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜，而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线，根据它可以决定合适的电解抛光规范。常见腐蚀仪特价