笔者在调研了国内外医药厂房设计规范的基础上,充分考察了小容量注射剂的常用设备以及常见产量的工艺车间,根据上述工艺生产流程,认为小容量注射剂生产车间的设计模块应包含称配液模块、洗烘模块、灌装模块、轧盖模块、灭菌模块、包装模块、洗灭模块。小容量注射剂生产车间以灌装模块为中心,其他工序围绕灌装间进行布置,可有效减少物料周转距离,进而降低交叉污染的可能性,同时单元(洗烘、灌装、轧盖)采用联动线生产模式,呈“I”字型布局形成单向流,人员从下侧进入车间,原液与小瓶等物料均从厂房另一侧进入到各个生产线内,成品灭菌后运出车间,可很大程度地减少污染风险。同时,能有效减少无菌区域的面积,减少风管、工艺管道长度,从而实现节能目的。细胞洁净车间欢迎咨询成都博一医药设计有限公司。成都净化工程设计价格
以下是对上述内容的改写:1.厂区的布局应考虑行政、生产、辅助、仓储和生活等区域的划分。2.生产厂房应位于厂区内环境清洁、人流和物流较少穿越的地方,同时要考虑产品工艺特点,以防止生产时的交叉污染。布置应合理,间距适当,经济实用。3.生产厂房的布局应综合考虑主流风向、生产流程、供料、供电、供热、供气、给排水等因素。洁净区和生活区应位于上风方向,而生产区、辅助区和污水处理区应位于下风方向。4.厂区道路应根据人流和物流分流的原则进行规划。道路面层应选择整体性好、产生少量尘土的材料(如沥青、混凝土路面)。5.厂区内不应有裸露的土地,绿化面积(不产生花粉、绒毛、絮状物)应占总面积的不少于50%,建筑物面积不应超过30%。6.对于存在安全隐患或有毒有害区域,应集中单独布置,并采取有效的防护措施,以满足安全和卫生要求。贵州净化车间设计有哪些品牌厂房设计推荐成都成都博一医药设计有限公司。
洁净厂房备用照明的设置应符合以下要求:1.洁净厂房内应设置备用照明,并且备用照明应作为正常照明的一部分。2.备用照明应满足所需场所或部位进行必要活动和操作的最低照度要求。3.洁净厂房内应设置供人员疏散用的应急照明。在安全出口、疏散口和疏散通道转角处应按照现行国家标准设置疏散标志。在消防口处应设置红色应急照明灯。通信洁净厂房内应设置与厂房内外联系的通信装置。洁净厂房内生产区与其他工段的联系,宜设生产对讲电话。根据生产管理和生产工艺特殊需要,洁净厂房宜设置闭路电视监视系统。洁净厂房的生产区(包括技术夹层)、机房、站房等均应设置火灾探测器。洁净厂房生产区及走廊应设置手动火灾报警按钮。洁净厂房应设置消防值班室或控制室,但其位置不应设在洁净区内。消防控制室应设置消防电话总机。
洁净室内墙壁和顶棚的装修应符合下列要求:1.洁净室内墙壁和顶棚的表面应平整、光滑、不起尘、避免眩光、便于除尘,并应减少凹凸面。2.踢脚不应突出墙面。3.洁净室不宜采用砌筑墙抹灰墙面,当必须采用时宜干燥作业,抹灰应采用高级抹灰标准。墙面抹灰后应刷涂料面层,并应选用难燃、不开裂、耐清洗、表面光滑、不易吸水变质发霉的涂料。洁净室地面设计应符合下列要求:1.洁净室地面应满足生产工艺要求。2.洁净室地面应平整,耐磨、易清洗,不易积聚静电,避免眩光,不开裂等。3.地面垫层宜配筋,潮湿地区垫层应做防潮构造。4.洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚表面应平整、光滑,位于地下的技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。实验室设计联系成都博一医药设计有限公司。
安全防火是制药工业厂房中非常重要的一项措施。为了确定适当的安全防火措施,需要考虑生产过程中使用、产生和存储的原料、中间产品和成品的物理化学性质、数量以及火灾危险程度,以及生产过程的性质等因素。对于化学合成原料药的生产厂房,建筑物应具备一级或二级耐火等级。对于原料药的结晶精制、干燥等工序以及制剂生产用的洁净厂房,耐火等级要求不低于二级,并且建筑构配件的耐火性能应与甲、乙类火灾危险等级相匹配。一般厂房应设有至少两个安全出口,而洁净厂房每个生产层或每个洁净区的安全出口数量不应少于两个,并且应该均匀地分散布置。如何选择合适的材料和结构来建造厂房?贵州净化车间设计有哪些品牌
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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。成都净化工程设计价格