氟塑料**度胶带NITOFLON No.923UL用于裹卷聚乙烯层压机等。NITOFLON No.923UL 胶带的基材为 NITOFLON No.920UL(定向聚四氟乙烯薄膜)。 该胶带为单表面处理胶带,涂有耐热性较强的硅树脂粘合剂。 该胶带具有优良的特征,如电气特性、耐热性、耐化学性和非粘合性。特征胶带无粘性的一面具有聚四氟乙烯的优良特征,如电气特性、耐候性、耐化学性、防水性(脱水)和非粘合性。***的抗拉强度。***的阻燃性。氟塑料**度胶带NITOFLON 日东No.923UL日东31B-1MIL,日东31C黑色-1MIL,日东376.厦门7568日东胶带厂家供应
氟塑料 (PTFE) 薄膜,具有出色的耐热性、脱模性、绝缘性、耐化学性。NITOFLON 日东No.900UL具有良好的耐化学性、电气特性和耐候性;可在各种温度下持续使用。单击缩放由氟塑料 (PTFE) 制成的薄膜。可在 -100°C 至 260°C 的温度范围内使用,通过 UL94 阻燃标准(V-0 或 VTM-0,注册号 E52859)认证。优异特性众多,如耐热性、电气绝缘性、滑动性、耐化学性和非粘合性。特征厚度范围从 0.03 mm 到 1.5 mm。出色的耐化学性。可耐大多数酸、碱和有机溶剂出色的电气特性,如介电击穿电压高和介电损耗低。可在 -100°C 至 260°C(建议值)温度范围内连续使用,并可在更高温度下短时间使用。在所有固体物质中摩擦系数达到比较低。粘合物质不易粘附,即使与模具接触也可以轻松从模具中取出。无吸湿性,几乎没有紫外线等引起的特征性恶化。获得 UL94 阻燃标准认证(V-0 或 VTM-0,注册号 E52859)佛山973UL-S日东胶带价格日东3800B红色,日东500,日东5000NS,日东5000NSLV.

将 FPC 固定在硬化剂上所用的强耐热性双面胶带 日东No.5915 /No.5915 具有***的加工性,转移胶带易于加工且可用于精细加工。 No.5915 双面胶带具有***的耐热性、粘合强度以及耐化学性等特征。 由于此款胶带的粘合剂几乎无挥发性,因此可用于在胶带粘贴后要求使用化学物质进行焊接和清洗的电子电气领域。特征 具有***的耐热和耐化学性。尽管粘合剂只有薄薄一层,但其粘性***。应用 固定柔性电路板。固定电子元件的薄膜和薄片。日东No.5915。日东No.5915
兼具遮光和反射特性的聚酯双面胶带 No.5680E/No.5682E/No.5684E 此种双面胶带的被粘合体特殊,具有优异的遮光特性。特征 具有黑色和白色的特殊被粘合体;白色的一面几乎不吸收光线。对各种粘合体均具有较强的粘性。无卤素 (*特意未使用氯化合物。)特性产品编号厚度[mm]180°剥离强度[N/20mm](对于不锈钢)保持强度[mm]No.5680E0.08515.00.2No.5682E0.0613.00.3No.5684E0.0511.00.5[备注]*1以300mm/min的速度,并以0.025mm聚酯为衬里,在180°方向上剥离时所进行的测量。*2被粘合体:苯酚树脂板;在温度为40℃时,加重500克(g)物品一小时后所测的偏差距离。*上述数据为样品测量值,因此不能保证其实际性能。日东5011N,日东5015,日东501L,日东5114.

表面保护材料SPV-364系列聚烯烃基表面保护材料适用于保护金属装饰板和铭牌。SPV-364系列是一种含有聚烯烃膜基材的表面保护材料。特征层压后粘合剂强度的变化微乎其微,确保了易剥离性。在再次层压中具有良好的可加工性。展开力小,易于层压。应用在运输和加工过程中用于保护预涂膜钢板和铭牌表面。表面保护材料SPV-364系列聚烯烃基表面保护材料适用于保护金属装饰板和铭牌。单击缩放SPV-364系列是一种含有聚烯烃膜基材的表面保护材料。特征层压后粘合剂强度的变化微乎其微,确保了易剥离性。在再次层压中具有良好的可加工性。展开力小,易于层压。应用在运输和加工过程中用于保护预涂膜钢板和铭牌表面。日东线束胶带No.223SH。厦门7568日东胶带厂家供应
Nitto 595 系列产品由一种轻型且抗老化无基材改性丙烯酸压敏粘合剂制成。厦门7568日东胶带厂家供应
PET 基材薄型双面胶带 NO.5603W 非常薄 (0.03mmt),可牢固固定于塑料薄膜和模型制品上 单击缩放 这种胶带以 #4 聚酯薄膜为基底,两面均涂有丙烯酸粘剂,可牢固粘附于塑料薄膜和模型制品上。 厚度* 0.03 mm,可用于在有限的空间或间隙进行粘合。 No.5603W 的两面均带有 PET 内衬。
特征 使用了优良的薄型基材,因而具有高成形性和加工能力这种胶带的厚度有利于其在有限的空间使用No.5603 型双层离型纸。特性 胶带厚度 [mm]0.03180° 剥离粘合力 [N/20 mm]10.4 厦门7568日东胶带厂家供应