各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。 螯合剂-双氧水稳定剂Turpinal系列对除菌剂的增效促进作用 : 作用机理:Turpinal产品可以螯合细胞膜表面的Ca 离子,提高除菌剂对微生物细胞膜的渗透性,从而提高除菌剂的作用效果。 经过我们实验:螯合剂-双氧水稳定剂Turpinal对于大肠埃希氏菌,Turpinal表现对除菌剂有着很好的增效促进作用。 金黄色葡萄球菌,各种配方都有很好的抑止效果。可能是由于基准香波配方里含有大量的 SLS(月桂基硫酸钠). 染发-烫发用什么双氧水稳定剂?上海上海直销双氧水稳定剂供应厂家
40多年前意特化工率先开发出了膦酸盐双氧水稳定剂,多年来DEQUEST®品牌膦酸盐一直作为各种应用中使用的阴垢剂、分散剂、缓蚀剂和螯合剂的推荐材料。DEQUEST®的膦酸酯和聚合特产品普遍用于世界上各大行业应用中,包括:水处理、家用、和工业洗涤剂、工业清洁剂、提高油田彩收率,以及各种工业工艺,比如脱盐、纸浆生产和漂白、纺织等。 DEQUEST®2010-HEDP 化学名:1-羟基亚乙基-1,1-二膦酸。过氧化氢和过氧乙酸消毒剂,也会因金属离子的存在而发生过快分解,DEQUEST 2010可有效抑止这种分解。进口双氧水稳定剂羟乙二膦酸上海直销双氧水稳定剂-HEDP-依替膦酸!
双氧水稳定剂-伊塔玛DEQUEST 2010螯合作用: ·分子结构中存在多个膦酸配位基团,使得Dequest®系列产品有良好的螯合功能。 ·膦酸分子与多种重金属,过渡金属结合,能够形成稳定的,水溶性复合物 ·对各种金属离子有很好的螯合能力(Ca,Mg,Fe,Cu,Mn,Al,…) Dequest®产品与常见螯合剂比较: 羧酸类螯合剂包括EDTA,DTPA,NTA,在H2O2,漂白水等氧化剂存在的情况下,会被氧化,从而失去螯合能力。 Dequest系列产品在H2O2等氧化剂中,可以稳定存在,,螯合能力可以继续保持。
Dequest膦酸盐使用中重要考虑因素——Dequest膦酸盐的高剂量: 和很多双氧水稳定剂一样, Dequest麟酸盐在低浓度时(12oppm活性酸),其性价比高。浓度过高可能造成不必要的膦酸钙沉淀(也称作“浑浊”)。开始出现沉淀的浓度因pH、温度、钙浓度和膦酸盐的类型的不同而有所不同。pH高、钙含量高会使得膦酸盐在较低的浓度就开始沉淀。 Dequest2054是所有 Dequest膦酸盐中对钙的耐受性高的。在冷却水系统的正常使用条件下, Dequest酸盐既不沉淀,也不会出现浑浊双氧水稳定剂-螯合剂羟基亚乙基二膦酸TURPINAL 4NL-望界供!
Dequest膦酸盐使用中重要考虑因素——Dequest膦酸盐和氯气: 氯气是常用的氧化剂和除菌剂,Dequest膦酸盐和氯气普遍用于漂白、清洁剂、冷却塔和游泳池。 氨基膦酸盐在存在余氯的情况下会很快分解,因此不适合这类的应用。非氨基膦酸盐( Dequest2010和7000)应用在冷却水处理中,在常规余氯浓度条件下能保持稳定。在存在结垢离子和容易氧化的微生物的环境中,余氯会优先氧化微生物,膦酸盐与余氯的反应会降低。另外与锌盐复配也是提高膦酸盐稳定性的方法之一。 Dequest6004是适合用于稳定碱性次氯酸盐溶液的膦酸盐。螯合剂-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂-**样品-上海望界;上海上海直销双氧水稳定剂供应厂家
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各类化妆品因过渡金属离子的存在而发生变色、变质的问题,烫发类产品中所含有的过氧化物,由于金属离子的存在而发生过快分解,甚至在使用中导致毛发的损伤。TURPINAL系列产品可有效提升包括染发产品在内的化妆品的稳定性,使用更安全。 上海望界供TURPINAL系列产品:TURPINAL SL-依替膦酸,TURPINAL 4NP-依替膦酸四钠,TURPINAL 4NL-依替膦酸四钠 特性和用途:强力的过渡金属离子螯合性,化妆品级高纯度,用作染发剂等个人护理产品的双氧水稳定剂上海上海直销双氧水稳定剂供应厂家
上海望界DEQUEST系列螯合剂-双氧水稳定剂-双氧水稳定剂等。分散作用: 分散作用,使得生长中晶体和其他颗粒的聚结变得更加困难,DEQUEST能够牢牢的吸附在晶体表面,给以排斥性电荷,除了反絮凝和使固体分散的作用外,由于优越的水解稳定性,膦酸盐能够在一个相当长的时间内维持系统始终处于分散状态,这种性质,使得DEQUEST在一系列的反絮凝作用中,如TiO2, 高岭吐,钻孔泥,具有潜在的应用前景。这种分散作用使得DEQUEST在去污剂和清洗剂的配方中可以占有一席之地。找双氧水稳定剂-双氧水稳定剂-螯合剂就选上海望界专营水处理产品;上海望界双氧水稳定剂羟乙二膦酸Turpinal产品可以螯合细胞膜表...