扩散板,增光片等各种LCD用光学薄膜的表面保护膜。生产,加工,运输等所有环节中保护光学薄膜。特点采用残胶等被粘物污染少的双层共挤压生产方式。通过基材和粘合剂的不同变化来对应凹凸面,磨沙面等多种多样的光学薄膜的表面形状。在无尘室生产。一般性保护膜的制作过程本公司双层共挤压过程1由于基材与胶层的粘接牢固,材料上几乎没有残胶。2它是一种无溶剂的制造方法,因此是一种对环境友善的生产方法。用途增光板等光学薄膜的表面保护。特性强粘着类型(PP系薄膜)一般物性:6700系列品名6748C6754A672NZ675KA色透明透明透明透明标准厚度μm40304040Haze%40501550杨氏模量(MD)Mpa0抗拉强度(MD)N/cm20202320拉伸伸长率(MD)%0粘着力(23℃,PMMA板)180°peelN/,非保证值一般物性:6800/6900系列品名6844B,6842C,6942A,6846A色透明透明透明透明标准厚度μm40754030Haze%40404040杨氏模量(MD)Mpa0抗拉强度(MD)N/cm20302020拉伸伸长率(MD)%0粘着力(23℃,PMMA板)90°peelN/。 sekisui积水5600胶带,型号齐全!辽宁泡棉积水胶带市场报价
通过反射功能的增强,提高背光源的亮度上升。粘合剂的冲型加工性优越,对各种贴合物有高粘合性。关于防止其使用部位线路短路的产品也俱全。用途特性一般物性项目単位3805BWH3805BH测试方法白面粘合力(对PC板)N/(对玻璃板)(对PC板)40℃℃,非保证值。其他在可视光领域的白面反射率遮光性测试名称漏光判定光线透过率(%)10光源模组用途反射/遮光应力缓和3800BWC3805BWC3806BWC耐反制力3800BWH3803BWH3804BWH3805BWH3806BWH3808BWH3810BWH3812BWH3815BWH片面3800BWS3805BWS3809BWS再使用3800BWAP3800BWSH3805BWSH3806BWAP3808BWAP遮光应力缓和 河北单面积水胶带咨询问价sekisui积水5230PSB胶带,型号齐全!

平板TV・PC汽车电子穿戴式AR/MR/VR一般家电无人机・产业机器人通信基础设施数码相机・录像机按产品类别搜索胶带膜粘合剂微粒子粉体・水溶液泡沫体凝胶片喷胶成型品印刷线路板按功能搜索接着・粘着防水防尘精密控制间隔保护热管理导电低介电常数和低传输损耗反射・遮光防震减震电磁波控制其他产品一览积水化学工业株式会社高机能塑料事业领域电子战略办公室电子材料事业部精细化学品事业部新事业推进部PrivacyPolicyInformationDisclosurePolicy企业行动方针网站条款Copyright(C)SEKISUICHEMICALCO.,LTD.
柔性泡棉胶带的使用例特征1.倾斜耐负载特性1模拟使用状况模拟将电视倾斜的悬挂在或餐厅的状态,并进行测评2测评方法胶带c25mm×25mm被着体①玻璃(PET侧玻璃)被着体②铝片贴合压力5kg×10sec固化24h*23℃50%RH倾斜45°负重1kg测定温度60℃90%RH3测评结果拥有很好的倾斜耐负载特性2.剪切耐负载特性1模拟使用状况模拟将LCD的负载施加到胶带上的静态剪切力2测评方法被着体玻璃/不锈钢片胶带贴合尺寸25mm×25mm加圧条件2kg滚筒1往复放置条件23℃×24hr试验条件60℃90%RH3测评结果拥有很好的倾斜耐负载特性3.可返工性1模拟使用状况模拟拆卸设备,撕裂胶带时对产生的异物程度进行测评2测评方法3测评结果积水产品的异物比其他公司少,PE产品不会产生异物。sekisui积水3806BSH胶带,型号齐全!

融合了胶带和结构胶的优点,兼具高初期强度和高可靠性的新型粘接剂。1.PhotolecB简介小型设备应用(智能手机、穿戴式设备、耳机等)大中型设备应用(电视、数据标牌、显示器、笔记本电脑、平板电脑等)2.产品概要3.产品特征1初期粘接强度高不需要治具,保压→提升生产效率2可对应0.5mm以下的窄边点胶不溢胶+点胶自由度高→适用于窄边框处的粘接3适用于不同材质的粘接可以提高材料选择上的自由度4完全固化后仍保持柔软度可以吸收由于被粘体的变形产生的应力5可以维持一定的胶高提高产品设计上的自由度4.应用场景智能手机的多部位粘接光学零部件固定精细零部件固定大屏幕的粘接车载屏幕的粘接sekisui积水胶带,6362型号齐全!辽宁泡棉积水胶带咨询报价
sekisui积水252胶带,型号齐全!辽宁泡棉积水胶带市场报价
特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降,可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液,PH9)后处理(强酸,强碱)镀金属处理(Ni。Au等)特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/:180度剥离UV照射:1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。辽宁泡棉积水胶带市场报价