工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

下面为大家简单介绍一下温湿度振动三综合试验箱。温湿度振动三综合试验箱广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验,并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性,暴露产品的缺点,是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验,以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。怎样选择工业烤箱呢?合肥真萍科技建材告知您专业的方法。浙江精密工业烤箱

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高温型热风循环干燥箱CZ-905B/1005B高温型热风循环干燥箱CZ-905B,高温型热风循环干燥箱CZ-1005B特点:外采用SECC钢板、精粉体烤漆处理;内采用SUS(201,304)不锈钢全新耐高温长轴心马达涡轮风扇耐高温纤维超温保护:强负载自动断电系统循环方式:强制水平送风循环加热方式:PID+S.S.R温度范围:室温+20~500℃温控器:PID微电脑控制计时器:温到计时;时间到切断加热电流本机台另备有400℃型烘箱,可供选择执行与满足标准及试验方法GB11158-89高温试验箱技术条件GB2423.2-89高温试验方法规格小型工业烤箱标准合肥真萍告诉您使用工业烤箱的便捷性。

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HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸:1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架:2块3.室温+10℃-250℃控温范围:温度分辨率:0.1℃温度波动度:±0.5℃4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,5.加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温)。

产品描述:真空干燥箱,是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。特点:1、长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。2、双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。真空程序分段控制该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。设备适用于产品或材料及电气、仪表、电子、电工及汽车、航空在恒温条件下作干燥和各种恒温适应性试验。

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本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:可靠的测控系统1温度控制装置:进口温控器,内置PID自动整定,斜率设定功能2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出,温度采集探头为特制铠装K型热电偶3温度监控装置:采用六通道巡回检测有纸记录仪,可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。完善的控制系统,及安全防护措施1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等。烤箱由箱体,电气控制柜,电加热,风道,尘埃物过滤,N2 进气排气等部分组装而成,结构合理,功能实用。上海工业烤箱价格多少

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HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。浙江精密工业烤箱

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