上海纳米粒度分析仪厂家

CMP浆料粒度分析的难点在于必须在抛光过程中全浓度条件下快速测定平均颗粒直径和粒度分布，因为稀释可能导致浆料稳定性和粒度的变化(比如进一步的团聚或解聚)，另外在稀释后的浆料中很难检测本来就较少量的团聚体。CPS-24000型纳米粒度分析仪是较新型的纳米粒度分析仪，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量，因此粒径相差小至1%的颗粒都可以明显分辨出来。适用于稀到高浓度的样品粒度测定，对团聚体的存在非常敏感。驰光机电科技深受各界客户好评及厚爱。上海纳米粒度分析仪厂家

CPS纳米粒度分析仪样本分散系统：自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择：EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能，可以：监测动力学过程；提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合：对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析；可同时测量粒径、粒形和浓度；多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求；测量过程中可实时观察样品颗粒。上海高精度纳米粒度分析仪价格驰光锐意进取，持续创新为各行各业提供专业化服务。

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技不断从事技术革新，改进生产工艺，提高技术水平。

CPS纳米粒度分析仪测量参数：粒径、粒形和浓度；粒径范围：0.1-3600μm；浓度范围：高达109颗粒/cm3(对1μm颗粒)；供样方式：液体、干粉、表面；系统规格/重量电源：665L×280W×183H(mm)；14Kg；100-130V，205-240V，50/60Hz，100VA；2mW He-Ne，632.8nm，硅PIN二极管检测器；全量程的0.3%，小可达0.2μm；同步频闪光源，亮度和持续时间可调；频闪率；可达30次/秒。分辨率B&W CCD摄像机。NTSC 840×640像素；PAL768×572像素。Windows XP操作系统，检测报告自动生成，符合FDA 21 CFRPART11标准。ISO标准；符合多项ISO方法标准；测量池模块：液体、乳液/不透明液体、干粉、纤维、磁性颗粒、加热液体及气溶胶。驰光机电以快的速度提供前列的产品质量和好的价格及完善的售后服务。北京二氧化钛粒度分析仪厂家

驰光机电科技团队从用户需求出发。上海纳米粒度分析仪厂家

颗粒形状信息很重要，混合样品或未知组分样品，需要高分辨率的数量分布来准确分析样品中的少数特殊颗粒，正在考虑将实验室检测扩大到工业规模的检测，我们还提供原位在线粒形分析系统，可用于高温，高压以及腐蚀性环境。动态测量系统，显微镜同等级的精度真实原始数据的存储，强大的预处理工具，高质量的图像分析结果，可精确测量非球形颗粒，供40个ISO标准粒形参数，包含粒径、形状因子、球形度、圆度、对比和表格，可保存分析测量图像和录保，图像分析结果可追溯。上海纳米粒度分析仪厂家