这个关系可以用散点图显示,用以观察样品粒径和形状之间的关系。形状过滤功能可以根据粒径或形状特性放大观察样品的特定部分。可以根据数据挖掘,对比分析粒度粒型数据分析,给除对比图与表格。图像分析软件的特征:测量过程中可观察颗粒;对已存图片或录像可重新分析;可根据粒径或形状对颗粒分类和过滤;对非球形颗粒可以提供多种形状参数;可提供纤维测量模块;验证工具-较大程度减少样品预处理对测量结果的影响,颗粒形状信息是很重要的。驰光机电科技凭借多年的经验,依托雄厚的科研实力。湖南高灵敏度纳米粒度分析仪
为了提高粒径的测量精度,需要较高的圆盘转速,目前市面上常见的运行速度较高在15000RPM,而国内在1500RPM,无法满足CPM化学机械抛光的需求。CPS-24000纳米粒度仪的最高转速为24000转,测试范围在5nm-75um,每次加样只需要0.1ml,降低样液的测试成本,可连续测量多达40个样品。CPS纳米粒度分析仪的使用方法已经列入国标,包括《金属粉末粒度分布的测量-重力沉淀光透法》、《煤矿粉尘粒度分布测定方法》、《橡胶配合剂-炭黑-聚集体尺寸的测定-使用光跟踪盘式离心沉淀仪法》等。山西粒度分析仪价格驰光机电科技有限公司以顾客为本,诚信服务为经营理念。
氧化锌可以应用于病毒载体制剂,并且病毒颗粒大小和病毒聚集对基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有着巨大的影响此款设备在有关工艺优化和产品质量等重要问题上有重要的参考价值。CPS纳米粒度分析仪可以直观准确的表征病毒颗粒的团聚情况。CPS纳米粒度分析仪测定不同处理方式下病毒颗粒的团聚情况的结果,仪器使用转速为24,000转/分。可以明显看到病毒颗粒是否发生团聚现象,仪器分辨率很好。CPS利用差速离心沉降法的原理表征不同处理方式下病毒颗粒的沉降时间,以及病毒颗粒的团聚情况。
CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!公司将以优良的产品,完善的服务与尊敬的用户携手并进!
高灵敏度:即使只有1微克样品,CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换:可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度,即百万分之一的误差。快速检测头响应:CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度,而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围,比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。地理位置优越,交通十分便利。湖南CPS高精度纳米粒度分析仪厂家
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主要特点如下:1.所需样品量少。每次只需要0.1ml,这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后,可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较,对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒,依旧可以很好地区分测量出来,即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较,由于采用更快的圆盘转速和高速检测器,因此较大缩短了分析所需时间。湖南高灵敏度纳米粒度分析仪
特别是在涉及危险化学品、高温、高压等实验条件下,应严格按照操作规程进行。防止交叉污染:在实验过程中,操作人员应采取措施防止交叉污染,如使用适当的试剂瓶、容器和移液器,避免不同试剂之间的交叉污染。注意观察和记录异常情况:操作人员在实验过程中应注意观察仪器和实验条件的变化,如发现异常情况应及时停止实验,采取必要措施并记录。仪器的维护与保养,定期维护与保养:操作人员应定期对仪器进行维护与保养,包括清洁仪器表面、检查仪器附件是否完好、更换消耗品等。确保仪器保持良好的工作状态和准确性。我们愿与您共同努力,共担风雨,合作共赢。辽宁纳米粒度分析仪报价以下是实验室分析仪的一些常见故障及排除方法:仪器无法启动,...