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精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。电器控制系统：1.电气控制元器件均采用国内出名品牌“正泰”2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修安全保护系统：1.超温报警2.欠相缺相保护3.过电流保护4.快速熔断器5.接地保护试验箱去哪找？合肥真萍科技告诉您。大试验箱代理

真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商，在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面，带您了解冷热冲击试验箱。一、温度均匀度旧标准称均匀度，新标准称梯度。温度稳定后，在任意时间间隔内，工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术，因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。二、温度偏差温度稳定后，在任意时间间隔内，工作空间中心温度的平均值和工作空间内其它点的温度平均值之差。虽然新旧标准对此指标的定义和称呼相同，但检测已有所改变，新标准更实际，更苛刻一点，但考核时间短点。一般标准要求指标为±2℃，纯高温试验箱200℃以上可按实际使用温度摄氏度(℃)±2%要求。大试验箱代理使用试验箱的好处有哪些？

温湿度振动三综合试验箱，广泛应用在对电工电子、家用电器、汽摩配件、化工涂料、航天、航空、石油、化工、电子、通讯、及其它相关产品零部件及材料进行高低温、恒定、交变湿热及振动冲击综合试验，并与单一因素作用相比更能真实地反映电工电子产品在运输和实际使用过程中对温湿度及振动复合环境变化的适应性，暴露产品的缺点，是新产品研制、样机试验、产品合格鉴定试验全过程必不可少的重要试验手段。三综合试验是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验，具有极宽大的温湿度控制范围，可满足用户的各种需要采用独特的平衡调温调湿方式，可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上，供用户对整机（或部件）、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验，以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的柜体规格、配备。1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。试验箱在社会上的重要性。

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。1.无尘等级：Class100：（符合FED-STD209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）2.温度范围：+60℃~+250℃（极限温度350℃）3.温度均匀性：±2℃（空箱测试）4.温度精确度：±1℃（空箱测试）5.设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;试验箱怎样使用？合肥真萍告诉您。生产试验箱生产商

合肥真萍科技简述试验箱规范标准。大试验箱代理

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。大试验箱代理

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