除了外观,存储柜的功能也在不断升级。现在的存储柜不仅是简单的存储空间,还可以具备防潮、防火、防盗等功能。例如,一些的衣柜可以通过智能控制系统来调节湿度和温度,保护衣物不受潮湿和虫害的侵害;一些书柜则可以通过特殊的材料和结构来防火和防盗,保护重要的文件和贵重物品。除了家庭用途,存储柜在商业领域也有着的...
下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度:1450℃;比较高温度:1500℃;2.绝热材料:石墨纤维毯、石墨纸;3.加热元件:石墨加热棒;4.冷却方式:气冷+循环风冷降温;5.控温稳定度:2℃,具有PID参数自整定功能;6.炉膛温度均匀度:5℃(恒温1500℃);7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%;8.极限真空:10-3torr级;9.抽气速率:空载下,30min达到10-2torr10.升温功率:170kW;11.升温速率:15℃/min(空载);12.降温速率:1450℃至80℃,240分钟13.腔体尺寸:1000*1000*1000mm(宽*深*高)上海存储柜的发展趋势。南京存储柜有哪些品牌
无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。一、技术指标与基本配置:1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;2.炉膛腔数:2个,上下布置;3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度4.温度和氧含量记录:无纸记录仪;二、氧含量(配氧分析仪):1.高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.控温稳定度:1℃;2.3温度均匀度:2%℃(260℃平台);马鞍山存储柜非标定制存储柜,有哪些好处值得选择?
超高真空烘箱被广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。1.工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2.温度波动度:±1.0℃(空载);3.温度偏差:常压温度试验:常温~200℃时±2℃200~300℃时±5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,100℃~200℃时±5.0℃200℃~300℃时±7.0℃
下面为大家介绍一下高温钟罩炉的各项系统。一、气氛系统。1.炉膛气氛:2路空气,流量计量程为7~70L/min,每路流量可调节;2.排气系统:在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放。二、传动系统1.传动方式:升降式2.传动类型:电动推杆传动3.容积:20L三、冷却系统1.冷却结构:无2.产品降温:随炉降温四、安全保护1.升、降、停按钮:载料台的升、降、停控制2.报警指示:超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警3.设备安全升温速率≤5℃/min五、温度控制系统1.温度测量:采用B分度热偶测量2.控制方式:高性能移相调压+SCR晶闸管模块控制2.1当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警2.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时,报警3.控制仪表:采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能合肥真萍告诉您存储柜的应用范围。
恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备,用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的构造特点。在箱体构造方面,恒温恒湿箱是采用数控机床加工成型,造型美观大方、新颖,并采用无反作用把手,操作简便。工作室采用进口镜面板不锈钢制作而成,箱体外胆采用A3钢板喷塑。箱体外与内胆之间填充超细保温棉,隔温效果很好,有效的降低试验箱内的温度波动率,再配合抗老化硅橡胶密封条的严实密封,使箱体无雾气泄漏现象产生。由于试验箱内的环境恶劣,为观察清晰试验箱内的情况,合肥真萍在观察窗方面是选用多层钢化玻璃制作,并且在观察窗设置单独的照明灯和雾刷,保持良好的观察视野,随时监控试验情况。当然,为采集试验数据,箱体专门配置了直径50mm的测试孔,可连接记录仪,打印机和电脑存储柜使用时的注意事项。绍兴存储柜生产厂商
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光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。南京存储柜有哪些品牌
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