电镀行业废水处理槽内壁易形成硅垢,使槽体有效容积减少 15%,废水处理量降低,且硅垢脱落会混入电镀废水,影响重金属离子去除效果,导致电镀件出现镀层缺陷。森纳斯硅垢清洗剂能同时去除电镀行业废水处理槽中的硅酸钙垢与硫酸钙垢,无需分步骤清洗,节省清洗时间。其另一卖点是 “不影响电镀液成分”,清洗后设备残留清洗剂不会与电镀液发生反应,保障电镀产品... 【查看详情】
空调冷却水系统和注塑机冷却系统在长期循环水运行过程中,容易出现水质浓缩、水垢堆积及藻类滋生问题,人工清洗无法彻底解决。森纳斯针对这一痛点,提供化学+物理结合的全流程清洗方案,采用自主研发高效清洗剂深入溶解水垢和微生物膜,再通过精密设备去除管道与换热器内残留物,实现系统多方位清洗。我们的专业团队拥有15年以上行业经验,累计清洗1000+现场... 【查看详情】
电镀行业废水处理槽内壁易形成硅垢,使槽体有效容积减少 15%,废水处理量降低,且硅垢脱落会混入电镀废水,影响重金属离子去除效果,导致电镀件出现镀层缺陷。森纳斯硅垢清洗剂能同时去除电镀行业废水处理槽中的硅酸钙垢与硫酸钙垢,无需分步骤清洗,节省清洗时间。其另一卖点是 “不影响电镀液成分”,清洗后设备残留清洗剂不会与电镀液发生反应,保障电镀产品... 【查看详情】
制药行业蒸发器常处理含有机物和盐分的废液,结垢成分复杂、附着牢固,传统酸洗无法彻底溶解,反而可能腐蚀设备表面。森纳斯针对制药蒸发器结垢“清不净、洗不透”的痛点,研发出一套自研化学清洗剂体系,配合物理冲洗和精细循环控制技术。我们结合300+垢样研究成果,对各类有机垢、钙镁垢、混合硫垢均能实现高效剥离。森纳斯拥有专业团队与精密清洗设备,能在不... 【查看详情】
纺织行业地下水净化的水箱内壁易堆积硅酸镁垢,尤其在水箱顶部通气孔附近,硅垢堆积会污染地下水,导致纺织用水硬度升高,影响布料染色均匀度,出现色差问题,传统清理需人工进入水箱擦拭,存在安全隐患。森纳斯硅垢清洗剂的渗透因子能在 1 小时内渗透至硅垢内部,形成微小孔隙,再配合剥离成分使垢体从水箱内壁脱落,避免硅垢长期附着导致水箱腐蚀。使用时,按比... 【查看详情】
换热器长期运行后常出现换热面结垢、传热效率下降等问题,尤其硫酸钙与硅酸钙垢极难去除。森纳斯中性清洗剂采用自创的缓释活化技术,在中性条件下即可实现垢层的定向溶解。工作液 pH 稳定在 7-8 之间,可安全作用于碳钢、不锈钢、铜管及铝制换热片,保证金属无腐蚀。产品亮点在于它能实现“真溶解”而非“假溶胀”。传统弱酸型中性剂往往通过膨胀剥落垢层,... 【查看详情】
电子制造行业的冷却水系统常用于精密设备的散热,但长期运行容易出现水垢、微生物沉积和管道阻塞,影响设备稳定性。森纳斯提供化学+物理结合清洗方案,自主研发清洗剂针对电子行业水质及冷却系统特点,高效溶解水垢和微生物膜,物理清洗设备彻底去除换热器和管道残留物。15年1000+现场清洗经验的团队,能够快速诊断问题,制定适合电子工业的清洗方案。森纳斯... 【查看详情】
粘合剂行业零排放系统的蒸发器,处理粘合剂生产废水时易形成含胶体、高分子聚合物的难溶垢,这些垢会在蒸发器内壁形成粘稠层,阻碍热量传递,导致蒸发效率骤降,且胶体垢难以彻底剥离。森纳斯提供化学清洗 + 物理清洗的组合型清洗方案,化学清洗用自研针对药剂,能分解胶体和高分子聚合物;物理清洗由专业团队操作精细化设备,彻底剥离粘稠垢层。我们拥有 15 ... 【查看详情】
蒸发器系统在长期运行中容易因高温浓缩导致硫酸钙、硅酸钙及有机垢类沉积,严重影响传热效率。森纳斯中性清洗剂以独特的中性配方(pH 7-8)为基础,兼具溶垢与防腐双重特性,能够在不破坏金属材质的前提下,有效去除钙、镁、硅类垢层,确保设备洁净如新。其活性组分能深入垢层内部进行溶解反应,而非简单的表面软化或溶胀。与传统酸洗相比,森纳斯中性清洗剂比... 【查看详情】