纳米压印应用三:连续性UV纳米压印
EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG开拓了这种非常规光刻技术,拥有多年技术,掌握了NIL,并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。步进重复纳米压印三维芯片应用
EVG ® 520 HE热压印系统
特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求
EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。
如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 四川纳米压印有哪些应用EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。
EVG ® 720特征:
体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
专有SmartNIL ®技术,多使用聚合物印模技术
集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造
盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式
可选的顶部对准
可选的迷你环境
适用于所有市售压印材料的开放平台
从研发到生产的可扩展性
系统外壳,可实现比较好过程稳定性和可靠性技术数据
晶圆直径(基板尺寸)
75至150毫米
解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:SmartNIL ®
曝光源:大功率LED(i线)> 400 mW /cm²
对准:可选的顶部对准
自动分离:支持的
迷你环境和气候控制:可选的
工作印章制作:支持的
曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用,例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板,可以实现亚10nm的分辨率,但是模板不能弯折,无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触,实现结构在非平面基底上的压印复制,但是由于弹性模板的杨氏模量较低,所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状,结合传统的纳米压印技术和软压印技术,中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法,该模板包含刚性结构层和弹性基底层。(来自网络,侵权请联系我们进行删除,谢谢!) EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。
纳米压印设备哪个好?预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。
纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。
将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上,从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。量产纳米压印原理
EVG提供不同的***积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。步进重复纳米压印三维芯片应用
EVG ® 510 HE热压印系统
应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产
EVG510 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有通用压花室以及真空和接触力功能,并管理适用于热压印的全部聚合物。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量纳米图案转印的工艺。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用
自动化压花工艺
EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印
完全由软件控制的流程执行
闭环冷却水供应选项
外部浮雕和冷却站 步进重复纳米压印三维芯片应用
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